支持7nm！高端DUV光刻机可出口后 ASML加快订单处理

ASML上周已经声明，高端DUV光刻机可以出口，而这也会让他们加快处理相应的订单。

所谓浸没式光刻机，属于193nm（光源）光刻机（分为干式和浸没式），可以被用于16nm至7nm先进制程芯片的制造，但是目前也有被业界广泛应用在45nm及以下的成熟制程当中。

ASML公司官网信息显示，该公司主流的DUV光刻机产品共有三款设备：TWINSCAN NXT：1980Di，TWINSCAN NXT：2000i和TWINSCAN NXT：2050i，其中2000i和2050i两款是公司在声明所指的产品。

理论上NXT:1980Di依然可以达到7nm，只是步骤更为复杂，成本更高，良率可能也会有损失，晶圆厂用这一台光刻机，大多是生产14nm及以上工艺的芯片，很少去生产14nm以下的工艺，因为良率低，成本高，没什么竞争力。

之前，该公司2022年其净销售额为212亿欧元，毛利率为50.5%，2022年底未交付订单创下历史新高，达404亿欧元。当年总共销售317台新光刻机，较前一年增长31台，此外还出货了28台二手光刻机。

对于今年的表现，ASML表示，将会加快对一些订单的处理，特别是高端DUV光刻机系列，以此来保证公司业绩强劲增长。